JELIGHT UVO-Cleaner Model 42  紫外臭氧清洗機

簡介

UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程，其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解，臭氧經(jīng)253.7nm分解，同時生成原子氧。

253.7nm輻射被大多數(shù)碳氫化合物和臭氧吸收。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應，形成更簡單的揮發(fā)性分子，從表面解吸。因此，當兩種波長同時存在時，原子氧不斷產(chǎn)生，臭氧不斷形成和破壞。

通過將適當?shù)念A清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內，例如UVO-Cleaner®內部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈，可以在不到一分鐘的時間內實現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外，該工藝不會損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結構。

ufo - cleaner®是去除硅，砷化鎵，石英，藍寶石，玻璃，云母，陶瓷，金屬和導電聚酰亞胺水泥中的有機污染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長，維護成本低，服務無故障。

應用程序:

•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底

•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導子組件和GaAs晶圓的清洗

•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗

•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機材料

•增強GaAs和Si的氧化鈍化表面

•減少玻璃的放氣

去除晶圓膠帶

•提高涂料對塑料的附著力

•測試后從晶圓上去除油墨

•剝離光刻膠

•從光刻板中去除潛在圖像

•清洗光刻版

•在硅片上生長氧化層

•在包裝/粘合前清洗電路板

•增加表面親水特性

•生物科學應用的清洗和滅菌

•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡

 

紫外清洗優(yōu)點

1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應后，生成可揮發(fā)性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表面消散，隨著排風系統(tǒng)抽走。

2. 表面潔凈度高，且不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。

3. 光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。

4. 光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細微的部位，發(fā)生光敏氧化反應，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。

 

可選設備：

所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風機套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風機將增加排氣流量。

 

單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制?？赡苄枰Ц额~外費用。

 

設備提供以下電源配置：

120V/60Hz 220V/50Hz

 

220V/60Hz

100V 50/60Hz

 

**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會極大地影響清潔速率。

Outer Dimensions

Length      Width         Height        Exhaust Port        Media Inlet Port (2x)

350 mm   220 mm     225 mm      50.8 mm               9.5 mm 

Tray Dimensions

Width        Length          Height (Adjustment Range)

165 mm    165 mm]       6 mm ~ 38 mm 

Grid Lamp

Type                                                      Average Intensity                        Distance Measured Away From Lamp

Low Pressure Mercury (Hg) Vapor      28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm              .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]

Electrical Characteristics

Output Power

Voltage                  Current

6000 Vpeak-peak    30 mA

Available Input Power Requirements

Model                     Voltage                             Frequency             Current

42                              120 VAC                          60 Hz                    2.0 A

42-220                      220 VAC                         50 Hz                    3.0 A

42-220-60                 220 VAC                         60 Hz                    2.0 A

42-100                      100 VAC                         50/60 Hz                    2.0 A

42 W/ ELAPSE TIMER        120 VAC, 220VAC          60 Hz, 50Hz                    2.0 A, 3.0A

 

Q： 某學院臭氧染毒裝置現(xiàn)場
A：某學院臭氧染毒裝置現(xiàn)場臭氧暴露染毒系統(tǒng)，用于研究臭氧對呼吸系統(tǒng)或全身健康的影響。裝置核心包括臭氧發(fā)生器、濃度監(jiān)測儀、密封；

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Q： 某大學PLD 腔體鍍膜臭氧實驗現(xiàn)場
A：某大學PLD 腔體鍍膜臭氧實驗現(xiàn)場 臭氧在 PLD 腔體鍍膜中主要起到改善膜層性能的作用。具體表現(xiàn)為在一定條件下，臭氧可；

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Q： 中科院管式爐臭氧淬火實驗現(xiàn)場
A：中科院管式爐臭氧催化實驗現(xiàn)場 管式爐臭氧淬火實驗的主要目的是研究臭氧在高溫條件下對材料表面改性的影響。通過臭氧與材料表面；

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Q： 南開大學臭氧分解催化劑評價實驗
A：南開大學臭氧分解催化劑評價實驗 臭氧分解催化劑評價實驗的主要目的是評估催化劑在分解臭氧（O?）過程中的性能，確保其在實際；

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Q： 某醫(yī)科大學臭氧小鼠暴漏實驗現(xiàn)場
A：某醫(yī)科大學臭氧小鼠暴漏實驗現(xiàn)場 臭氧小鼠暴露實驗的主要目的是研究臭氧對生物體的毒性作用及其機制，評估長期或短期暴露于臭氧；

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Q： 臭氧催化氧化實驗去除COD
A：臭氧催化氧化實驗去除COD 臭氧催化氧化實驗去除樣品水中COD，配置包括3S-T10臭氧發(fā)生器、3S-J5000臭氧檢測；

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Q： 臭氧催化劑分解實驗
A：臭氧催化劑分解實驗 使用UV-S-CN臭氧發(fā)生器產(chǎn)生40ppm臭氧濃度，將臭氧通入微型反應器中，研究臭氧催化劑分解效率。；

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Q： 清華大學臭氧催化氧化實驗現(xiàn)場
A：清華大學臭氧催化氧化實驗現(xiàn)場 清華大學采購同林3S-T10臭氧發(fā)生器和3S-J5000臭氧在線檢測儀，進行臭氧催化氧化實；

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Q： 臭氧去除VOCs的具體方法、機制及注意事項研究
A：臭氧去除VOCs的具體方法、機制及注意事項研究臭氧（O?）可用于去除揮發(fā)性有機化合物（VOCs），其原理主要是通過臭氧的；

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Q： 臭氧脫色實驗指南：必備設備與操作要點
A：臭氧脫色實驗指南：必備設備與操作要點 臭氧脫色是一種高效、環(huán)保的廢水處理方法，廣泛應用于印染、造紙等行業(yè)的廢水處理研究；

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Q： 如何提高臭氧通入管式爐的穩(wěn)定性和準確性？
A：如何提高臭氧通入管式爐的穩(wěn)定性和準確性？在工業(yè)生產(chǎn)中，管式爐的應用廣泛，而臭氧通入管式爐的穩(wěn)定性和準確性對于生產(chǎn)過程至關；

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Q： 高濃度臭氧發(fā)生器用于金屬氧化物薄膜 MBE 生長研究
A： 高濃度臭氧發(fā)生器用于金屬氧化物薄膜 MBE 生長研究一、背景分子束外延（MBE）技術是一種用于生長高質量半導體、金屬和；

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Q： 不同材料在管式爐實驗中臭氧退火的參數(shù)差異有哪些？
A：不同材料在管式爐實驗中臭氧退火的參數(shù)差異有哪些？不同材料在管式爐實驗中，臭氧退火的參數(shù)存在著多種差異。以下將從多個方面進；

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Q： 管式爐臭氧退火實驗方案設計
A：管式爐臭氧退火實驗方案設計 一、實驗目的 本實驗旨在利用管式爐和臭氧發(fā)生器進行退火處理，以研究特定材料在臭氧環(huán)境下的物理；

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Q： PLD 腔體鍍膜實驗臭氧工藝流程
A：PLD 腔體鍍膜實驗臭氧工藝流程 臭氧通入到 PLD 中進行腔體鍍膜是一項具有一定技術難度的實驗，需要謹慎操作并準備合適；

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Q： 臭氧通入管式爐淬火實驗怎么配置
A：臭氧通入管式爐淬火實驗怎么配置 現(xiàn)在需要幫用戶提供一個管式爐淬火實驗中使用臭氧發(fā)生器，要求爐內臭氧濃度達到6mg/L,如；

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Q： 臭氧陶瓷膜曝氣試驗裝置材料與檢測方法
A：臭氧陶瓷膜曝氣試驗裝置材料與檢測方法 1.材料與方法 1.1試劑與儀器 試劑:苯酚、磷酸、磷酸氫二鈉、靛藍二磺酸鈉、硫代

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A：恭喜馬老師論文發(fā)表：臭氧催化氧化處理焦化廢水尾水的催化劑適配研究 馬 棟,段 超,王亞強,等.臭氧催化氧化處理焦化廢水尾

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A：臭氧處理絮凝膜濃縮物中OBPs的分子特征和形成研究 垃圾滲濾液是在垃圾填埋場和廢物發(fā)電廠(臨時廢物掩體)處置城市固體廢物

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A：O3/TiO2-NF/H2O2 工藝深度處理焦化廢水 本文研究了在恒定臭氧濃度(84mg/L)下,不同H2O2投加量(以

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